Ätzmittel
Parametertabelle
Anwendungsbereich | Einstufung | Produktname | Ein anderer Name | Produktqualität |
TFT-LCD | Ätzmittel | Aluminiumätzmittel | Al Etchant | |
Kupferätzmittel | Mit Ätzmittel | |||
ITO-Ätzmittel | ITO-Ätzmittel | |||
Phosphorsäure | H3PO4 | |||
Salpetersäure | HNO3 | |||
Essigsäure | CH3COOH | |||
Wasserstoffperoxidlösung | H202 | |||
Silberätzung | Ag-Ätzmittel |
Produktbeschreibung
Ätzmittel werden häufig in der Metallverarbeitung, Halbleiterfertigung, Herstellung elektronischer Komponenten, Chipherstellung und in der wissenschaftlichen Forschung eingesetzt. In der Metallverarbeitung werden Ätzmittel eingesetzt, um Oxide oder unerwünschtes Material von Metalloberflächen zu entfernen und so die Qualität und Eigenschaften von Metallteilen zu verbessern. In der Halbleiter- und Elektronikfertigung werden Ätzmittel zur Herstellung winziger Strukturen und Schaltkreise eingesetzt. In der wissenschaftlichen Forschung können Ätzmittel zur Vorbereitung von Proben zur Untersuchung ihrer Mikrostruktur eingesetzt werden. Zusammenfassend lässt sich sagen, dass Ätzmittel in vielen Bereichen wichtige Anwendungen finden.
Bei der Halbleiterherstellung ist Ätzmittel eine chemische Lösung, die zum lokalen Ätzen von Chips und anderen Halbleiterbauelementen verwendet wird. Durch dieses Ätzen werden winzige Strukturen wie Kanäle und Durchkontaktierungen erzeugt, die die Schaltkreise und andere Merkmale des Chips definieren. Üblicherweise wird Ätzmittel mithilfe von Maskierungstechnik oder anderen Mitteln auf bestimmte Bereiche eines Halbleiterbauelements aufgetragen, um die gewünschten Muster und Strukturen zu erzielen. Die Tiefe und Genauigkeit des Ätzmittels können durch die Zusammensetzung, Temperatur und Ätzdauer des Ätzmittels eingestellt werden. Daher ist Ätzmittel bei der Halbleiterherstellung ein wichtiges Prozessmaterial zur Definition und Bildung der feinen Strukturen auf dem Chip.
Ätzmittel wird häufig zur Bearbeitung von Leiterplatten (PCBs) bei der Herstellung elektronischer Bauteile verwendet, insbesondere bei chemischen Ätzprozessen. Seine Funktion besteht darin, unnötige Teile von der Kupferfolienoberfläche zu entfernen, um das gewünschte Schaltungsmuster zu erzeugen. Die einzelnen Schritte sind wie folgt: Entwerfen Sie das gewünschte Schaltungsmuster und übertragen Sie es auf die Kupferfolienoberfläche. Tauchen Sie die Leiterplatte in das Ätzmittel, wodurch nur die ungeschützte Kupferfolie entfernt wird und das gewünschte Schaltungsmuster erhalten bleibt. Kontrollieren Sie die Ätzzeit, um sicherzustellen, dass nur die benötigte Kupferfolie entfernt wird. Auf diese Weise trägt das Ätzmittel zur Erstellung der gewünschten Schaltungsmuster bei – ein entscheidender Schritt im Leiterplattenherstellungsprozess.
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