Einzelne Chemikalien
Parametertabelle
| Anwendungsbereich | Einstufung | Produktname | Ein anderer Name | Produktqualität |
| IC | Einzelne Chemikalie | Phosphorsäure | H3PO4 | G3 |
| Schwefelsäure | H2SO4 | G5 | ||
| Flusssäure | HF | G5 | ||
| Wasserstoffperoxid | H2O2 | G5 | ||
| Ammoniak | NH3·H2O | G5 | ||
| Salpetersäure | HNO3 | G4 | ||
| Essigsäure | CH3COOH | G3 | ||
| Salzsäure | HCL | G3 | ||
| N-Methylpyrrolidon | NMP | G3 |
Produktbeschreibung
Bei der Herstellung integrierter Schaltkreise und Anzeigetafeln wird Single Chemical üblicherweise für die folgenden Zwecke verwendet:
Reinigung:Mit Single Chemical können die Oberflächen von Halbleiterwafern und Displays gereinigt werden. Dadurch werden Staub, Verunreinigungen und Rückstände entfernt, um eine gute Oberflächenqualität und -konsistenz während des Herstellungsprozesses zu gewährleisten.
Radierung:Einzelne Chemikalien werden als Ätzmittel verwendet, um bestimmte Materialien präzise von Halbleiterscheiben und Anzeigetafeln zu entfernen und so die gewünschten Muster und Strukturen zu bilden.
Chemisch-mechanisches Polieren (CMP):Bei der Herstellung von Wafern und Anzeigetafeln wird Single Chemical auch im CMP-Prozess verwendet, um Oberflächenunebenheiten, Oxide und Rückstände zu entfernen und so eine ebene Oberfläche und die gewünschte Schaltungskonfiguration zu erhalten.
Fotolithografie:Einzelne Chemikalien können als Material im Fotolithografieprozess verwendet werden, um gewünschte Muster und Strukturen zu definieren, indem Oberflächenmaterial in bestimmten Bereichen entfernt oder geschützt wird.
Kontaktreinigung:Während des Herstellungsprozesses wird Single Chemical auch zum Reinigen und Entfernen von Nachbearbeitungsrückständen und Chemikalien verwendet, um die Qualität und Reinheit von Halbleiterwafern und Anzeigetafeln zu erhalten.
Bei der Verwendung einzelner Chemikalien müssen Sie sich strikt an die Sicherheitsverfahren und Umweltschutzanforderungen halten, um die Sicherheit der Bediener zu gewährleisten, und zum Schutz der Umwelt die relevanten Vorschriften und Normen bei der Abfallentsorgung einhalten.
In der Halbleiterindustrie spielen Einzelchemikalien eine wichtige Rolle. Der Halbleiterherstellungsprozess erfordert den Einsatz einer Vielzahl von Chemikalien für Reinigung, Ätzen, Abscheidung, Fotolithografie, Reinigung und weitere Prozessschritte. Einzelchemikalien können einzelne hochreine Chemikalien sein, die in einem bestimmten Prozessschritt verwendet werden, oder Chemikalien, die während des Herstellungsprozesses individuell kontrolliert werden müssen. Die Qualität und Reinheit dieser Chemikalien sind entscheidend für die Qualität und Leistung von Halbleiterprodukten. Sie spielen eine entscheidende Rolle bei der Halbleiterherstellung und gewährleisten Produktgenauigkeit, -stabilität und -zuverlässigkeit. Darüber hinaus ermöglicht der Einsatz von Einzelchemikalien eine präzise Steuerung des Herstellungsprozesses, verbessert die Produktionseffizienz und reduziert die Umweltbelastung. Daher spielen Einzelchemikalien in der Halbleiterindustrie eine wichtige Rolle bei der Sicherstellung der Prozesszuverlässigkeit und Produktqualität.
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