Inquiry
Form loading...
Categorías de produtos
Produtos destacados

Químicos formulados

O proceso de produción de produtos químicos de grao IC require un control estrito do contido de varias impurezas para garantir a estabilidade e fiabilidade do produto. Estes produtos químicos adoitan ter unha pureza elevada, como máis do 99,999 %, para garantir a menor taxa de contido de impurezas na fabricación de compoñentes electrónicos.

    Táboa de parámetros

    Área de aplicación

    Clasificación

    Nome do produto

    IC

    Químicos formulados

    Adelgazamento do espello na parte traseira da oblea

    Atomización e adelgazamento da parte traseira da oblea

    Gravado de substratos de polisilicio e silicio

    Gravado por óxido e limpeza de obleas

    Grabado de película metálica

    Grabado isocinético nitróxeno-silicio/oxi-silicio

    Grabado selectivo de óxido de zinc-indio galio

    Gravado selectivo de nitróxeno-silicio/oxi-silicio

    SiN/AlO, grabado selectivo de SiN/TiN

    Aditivos de ácido fosfórico, abrasivos CMP

    Unha nova xeración de fluídos de gravado de materiais HK

    Grabado de molibdeno

    Grabado dopado con Sc-AlN

    Gravado selectivo de SiGe

    A parte traseira da oblea está diluída e o silicio altamente dopado está gravado selectivamente

    No gravado, a relación de selección de óxido de silicio ao gravado de nitruro de silicio é superior a 200

    No gravado, a relación de selección de gravado de óxido de silicio ao aluminio é superior a 50

    Os fluídos de gravado poden infiltrarse en fosas profundas para gravar os medios de sílice que depositan a unha profundidade específica

    O óxido de silicio da porta pódese gravar e ten unha boa uniformidade

    Diluyente fotorresistente

    Controla a rexeneración da oblea do bisel

    Eliminación de residuos de gravado en seco

    Limpeza de residuos de gravado en seco no proceso de aluminio (>130 nm)

    Limpeza de residuos de gravado en seco no proceso de cobre (130nm-40nm)

    Proceso de cobre: ​​limpeza de residuos de gravado en seco con máscara dura de TiN (40 nm-12 nm)

    Utilízase para o proceso de limpeza e eliminación de AlOx de 10 nm

    Eliminación da resistencia á luz do proceso de despegue

    Eliminación da resistencia á luz do proceso de despegue

    Descrición do produto

    Os produtos químicos formulados úsanse habitualmente de diversas formas na fabricación de circuítos integrados e paneis de visualización. Algúns usos comúns inclúen:

    Proceso de fotolitografía:Os produtos químicos formulados pódense usar para preparar fotorresistentes para definir estruturas finas en placas de circuítos ou paneis de visualización. Estes produtos químicos xogan un papel fundamental no proceso de fotolitografía, axudando a crear patróns e estruturas precisos.

    Limpeza e eliminación de residuos:Os produtos químicos formulados utilízanse nos procesos de fabricación para limpar e eliminar os residuos, como os residuos orgánicos e inorgánicos xerados durante a produción.

    Reaccións químicas e deposición:Algúns produtos químicos formulados pódense usar nunha variedade de reaccións químicas e procesos de deposición, como a preparación de capas funcionais cunha condutividade específica ou propiedades ópticas.

    Garantir a calidade e consistencia do produto:Os produtos químicos formulados tamén se poden usar para garantir a calidade e a consistencia do produto, por exemplo controlando os tratamentos de superficie e as condicións do proceso.

    Cando se traballe con produtos químicos formulados, débense seguir rigorosamente os procedementos operativos seguros e a manipulación e eliminación deben realizarse nun ambiente axeitado.

    No proceso de fabricación de compoñentes electrónicos, os produtos químicos de calidade IC adoitan ter os seguintes requisitos:
    Alta pureza:Os produtos químicos de calidade IC deben ser de moi alta pureza para garantir que non se introduzan impurezas ou contaminantes durante o proceso de fabricación. Estes produtos químicos deben producirse con estritos requisitos de pureza e someterse a rigorosos procedementos de purificación e proba.

    Residuo iónico baixo:Os produtos químicos de calidade IC deben ter baixos residuos iónicos xa que o alto contido de ións pode afectar negativamente o rendemento dos compoñentes electrónicos. Polo tanto, adoitan tomarse medidas durante o proceso de produción para minimizar o arrastre iónico. 

    Baixo contido de residuos:Os produtos químicos de calidade IC deben ter baixo contido de residuos para evitar que durante o proceso de fabricación deixen impurezas que poidan afectar o rendemento ou a estabilidade do circuíto.
    Propiedades químicas precisas:Os produtos químicos de calidade IC deben ter propiedades químicas estables e a súa composición debe ser controlada e confirmada estritamente para garantir que cumpren os requisitos durante o proceso de fabricación.

    Cumprir as normas pertinentes:A produción e o uso de produtos químicos de calidade IC deben cumprir as normas e as normas relevantes da industria para garantir a calidade e a seguridade do produto.
    Cando usan produtos químicos de clase IC, os fabricantes normalmente controlan estritamente as súas fontes, adoptan prácticas de almacenamento e manipulación adecuadas e aseguran que os operadores estean debidamente formados.

    descrición 2