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Produtos Químicos Formulados

O processo de produção de produtos químicos de grau CI exige um controle rigoroso do teor de diversas impurezas para garantir a estabilidade e a confiabilidade do produto. Esses produtos químicos normalmente apresentam alta pureza, como acima de 99,999%, para garantir o menor teor de impurezas na fabricação de componentes eletrônicos.

    Tabela de Parâmetros

    Área de aplicação

    Classificação

    Nome do produto

    CI

    Produtos Químicos Formulados

    Afinamento do espelho na parte de trás do wafer

    Atomização e afinamento da parte traseira do wafer

    Gravação de substratos de polissilício e silício

    Gravação de óxido e limpeza de wafers

    Gravação de filme metálico

    Gravação isocinética de nitrogênio-silício/oxi-silício

    Gravação seletiva de óxido de índio, gálio e zinco

    Gravação seletiva de nitrogênio-silício/oxi-silício

    SiN/AlO, corrosão seletiva de SiN/TiN

    Aditivos de ácido fosfórico, abrasivos CMP

    Uma nova geração de fluidos de gravação de materiais HK

    Gravação de molibdênio

    Gravação de Sc-AlN-dopado

    Gravação seletiva de SiGe

    O lado posterior do wafer é afinado e o silício altamente dopado é gravado seletivamente

    Na gravação, a proporção de seleção da gravação de óxido de silício para nitreto de silício é superior a 200

    Na gravação, a taxa de seleção de gravação de óxido de silício para alumínio é superior a 50

    Os fluidos de corrosão podem infiltrar-se em valas profundas para corroer a mídia de sílica que depositam até uma profundidade específica

    O óxido de silício da porta pode ser gravado e tem boa uniformidade

    Diluente fotorresistente

    Regeneração de wafer de moldura de controle

    Remoção de resíduos de corrosão a seco

    Limpeza de resíduos de corrosão a seco em processo de alumínio (>130 nm)

    Limpeza de resíduos de corrosão a seco em processo de cobre (130 nm-40 nm)

    Processo de cobre: ​​limpeza de resíduos de corrosão a seco com máscara rígida de TiN (40 nm-12 nm)

    É usado para limpeza e remoção de AlOx em processo de 10 nm

    Processo de decolagem com remoção de resistência leve

    Processo de decolagem com remoção de resistência leve

    Descrição do produto

    Produtos químicos formulados são comumente utilizados de diversas maneiras na fabricação de circuitos integrados e painéis de exibição. Alguns usos comuns incluem:

    Processo de fotolitografia:Produtos químicos formulados podem ser usados ​​para preparar fotorresistentes para definir estruturas finas em placas de circuito ou painéis de exibição. Esses produtos químicos desempenham um papel fundamental no processo de fotolitografia, ajudando a criar padrões e estruturas precisos.

    Limpeza e Remoção de Resíduos:Produtos químicos formulados são usados ​​em processos de fabricação para limpar e remover resíduos, como resíduos orgânicos e inorgânicos gerados durante a produção.

    Reações químicas e deposição:Alguns produtos químicos formulados podem ser usados ​​em uma variedade de reações químicas e processos de deposição, como na preparação de camadas funcionais com condutividade ou propriedades ópticas específicas.

    Garantir a qualidade e a consistência do produto:Produtos químicos formulados também podem ser usados ​​para garantir a qualidade e a consistência do produto, por exemplo, controlando tratamentos de superfície e condições de processo.

    Ao trabalhar com produtos químicos formulados, os procedimentos operacionais seguros devem ser seguidos rigorosamente e o manuseio e o descarte devem ser realizados em um ambiente apropriado.

    No processo de fabricação de componentes eletrônicos, os produtos químicos de grau CI geralmente têm os seguintes requisitos:
    Alta Pureza:Os produtos químicos de grau IC devem ser de altíssima pureza para garantir que nenhuma impureza ou contaminante seja introduzido durante o processo de fabricação. Esses produtos químicos devem ser produzidos de acordo com rigorosos requisitos de pureza e submetidos a rigorosos procedimentos de purificação e testes.

    Baixo resíduo iônico:Produtos químicos de grau CI devem ter baixo teor de resíduos iônicos, pois altos teores de íons podem impactar negativamente o desempenho dos componentes eletrônicos. Portanto, medidas são frequentemente tomadas durante o processo de produção para minimizar o arraste iônico. 

    Baixo teor de resíduos:Os produtos químicos de nível CI devem ter baixo teor de resíduos para evitar deixar impurezas durante o processo de fabricação que possam afetar o desempenho ou a estabilidade do circuito.
    Propriedades químicas precisas:Os produtos químicos de grau IC devem ter propriedades químicas estáveis, e sua composição deve ser rigorosamente controlada e confirmada para garantir que atendam aos requisitos durante o processo de fabricação.

    Cumpra as normas relevantes:A produção e o uso de produtos químicos de grau IC devem estar em conformidade com os padrões e regulamentações relevantes da indústria para garantir a qualidade e a segurança do produto.
    Ao usar produtos químicos da Classe IC, os fabricantes normalmente controlam rigorosamente suas fontes, adotam práticas adequadas de armazenamento e manuseio e garantem que os operadores sejam treinados adequadamente.

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